リソグラフィ装置の偏光放射線およびデバイス製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：稲葉良幸 , 大賀眞司 , 大貫敏史 , 浅村皓 , 浅村肇 , 山本貴和 , 吉田裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-189049
公開番号（公開出願番号）：特開2007-027719
出願日： 2006年07月10日
公開日（公表日）： 2007年02月01日
要約：

【課題】直線偏光放射線の第一部分および非偏光または円偏光放射線の第二部分を断面に有するように放射線ビームを調整することができる光学要素を有する照明システムを有するリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】装置はさらに、パターニングデバイスを支持するように構築された支持体を有し、パターニングデバイスは、パターン形成した放射線ビームを形成するために、照明放射線ビームの断面にパターンを与えることができる。基板テーブルを提供して基板を保持し、投影システムを提供し、パターン形成した放射線ビームを基板の目標部分に投影するように構成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

リソグラフィ装置であって、非偏光または円偏光放射線の第一部分および異なる偏光の第二部分を断面に有するように放射線ビームを調整することができる光学要素を有する照明システムと、パターニングデバイスを支持するように構築された支持体とを含み、パターニングデバイスは、パターン形成した放射線ビームを形成するために、照明放射線ビームの断面にパターンを与えることができ、さらに、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン形成した放射線ビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムとを含むリソグラフィ装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20

FI (2件)：

H01L21/30 515D , G03F7/20 521

Fターム (8件)：

5F046BA04 , 5F046CB11 , 5F046CB15 , 5F046CB23 , 5F046CB24 , 5F046CB25 , 5F046DA01 , 5F046DA12

引用特許：

審査官引用 (8件)

露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-272626 出願人：キヤノン株式会社
露光装置及びデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-097068 出願人：キヤノン株式会社
放射偏光光学構造及びそれを有するマイクロリソグラフィ投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-271288 出願人：カール・ツアイス・スティフツング

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