特許
J-GLOBAL ID:200903013693412579
走査型荷電粒子顕微鏡装置および走査型荷電粒子顕微鏡装置で取得した画像の処理方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
井上 学
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-009699
公開番号(公開出願番号):特開2008-177064
出願日: 2007年01月19日
公開日(公表日): 2008年07月31日
要約:
【課題】走査型荷電粒子顕微鏡で撮像して得られる試料の画像について、ノイズ成分を低減させた高品質な画像を取得して画像処理の精度を向上させる。【解決手段】撮像条件や試料情報に基づいてビーム強度波形を計算し、また、ビーム強度波形以外による分解能劣化要因も劣化モデルの対象として画像復元を行うことにより、様々な条件において高分解能な画像を取得することを可能とした。さらに、半導体検査および半導体計測用の走査型荷電粒子顕微鏡において、画像復元後の画像を用いてパターン寸法計測、欠陥検出、欠陥分類等に用いることにより、計測精度向上や欠陥検出、欠陥分類の高精度化を可能とした。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
集束させた荷電粒子線をパターンが形成された試料上に照射して走査する荷電粒子線照射光学系手段と、
該荷電粒子線照射光学系手段により荷電粒子線が照射されて走査された前記試料から発生した同種または別種の荷電粒子を検出する荷電粒子検出光学系手段と、
該荷電粒子検出光学系手段で検出した信号を処理して前記試料の荷電粒子画像を得る画像取得手段と、
該画像取得手段で取得した前記試料の荷電粒子画像を処理する画像処理手段と
を備えた走査型荷電粒子顕微鏡装置であって、
前記画像処理手段は、前記画像取得手段で取得した画像の画像取得条件又は前記撮像した試料の情報のうち少なくとも一方を含む撮像情報を用いて算出した劣化関数を用いて前記画像取得手段で取得した画像の復元画像を求めることを特徴とする走査型荷電粒子顕微鏡装置。
IPC (2件):
FI (3件):
H01J37/22 502H
, H01J37/28 B
, H01J37/22 502G
Fターム (2件):
引用特許:
出願人引用 (2件)
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特開平3-44613号公報
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荷電粒子ビームカラム
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-115480
出願人:アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
審査官引用 (7件)
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