特許
J-GLOBAL ID：200903015627168538

スパッタ装置および基板搬送用キャリア

発明者：
浅野 雅朗

浅野 雅朗 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-359128
公開番号（公開出願番号）：特開2007-162063
出願日： 2005年12月13日
公開日（公表日）： 2007年06月28日
要約：
【課題】 ターゲットと処理基板とを立てた状態で平行に対向させてて、搬送しながらスパッタ処理を行う縦型のインラインスパッタ装置おいて、搬送の振動、処理基板の破損、処理基板の移動に起因する、歩留まり低下や品質面の問題を解決できる保持方法を採りいれたスパッタ装置の提供。【解決手段】 インラインで、搬送しながらスパッタ処理を行い、処理基板20の一面側にスパッタ成膜を施すスパッタ装置であって、処理基板20の成膜する側の面とターゲット30とを、平行に対向させ、鉛直方向62もしくは鉛直方向から斜めに傾けて配しているもので、前記キャリアには、搭載された処理基板のスパッタ処理面側でない裏面側から、あるいは、搭載された処理基板のスパッタ処理面側の非処理領域において、前記処理基板の少なくとも一部を、静電吸着により吸着し、且つ、処理基板の面方向における位置が固定された支持部に保持される静電吸着部を設けている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ガラス基板をベース基板とする処理基板をキャリアに搭載した状態で、インラインで、搬送しながらスパッタ処理を行い、該処理基板の一面側にスパッタ成膜を施すスパッタ装置であって、処理基板の成膜する側の面とターゲットとを、平行に対向させ、鉛直方向もしくは鉛直方向から斜めに傾けて配しているもので、前記キャリアには、搭載された処理基板のスパッタ処理面側でない裏面側から、あるいは、搭載された処理基板のスパッタ処理面側の非処理領域において、前記処理基板の少なくとも一部を、静電吸着により吸着し、且つ、処理基板の面方向における位置が固定された支持部に保持される静電吸着部を設けていることを特徴とするスパッタ装置。
IPC (3件)：
C23C 14/34 ,  C23C 14/50 ,  H01L 21/285
FI (3件)：
C23C14/34 J ,  C23C14/50 A ,  H01L21/285 S
Fターム (11件)：
4K029AA09 ,  4K029BA50 ,  4K029BC09 ,  4K029CA05 ,  4K029DC05 ,  4K029JA01 ,  4K029JA05 ,  4K029KA01 ,  4M104AA09 ,  4M104BB36 ,  4M104DD39
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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