多層反射膜付き基板、露光用反射型マスクブランクス及び露光用反射型マスク、並びにそれらの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大塚武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-369863
公開番号（公開出願番号）：特開2005-210093
出願日： 2004年12月21日
公開日（公表日）： 2005年08月04日
要約：

【課題】導電膜を設けた基板の静電チャック時の導電膜の膜剥れや異常放電によるパーティクルの発生を抑制した多層反射膜付き基板、パーティクルによる表面欠陥の少ない高品質の露光用反射型マスクブランクス、及びパーティクルによるパターン欠陥のない高品質の露光用反射型マスクを提供する。【解決手段】基板1上に、露光光を反射する多層反射膜3を有し、基板1を挟んで多層反射膜3と反対側に、基板1の少なくとも周縁部を除く領域に導電膜2が形成されている多層反射膜付き基板10である。導電膜2は例えばクロム(Cr)を含む材料からなり、導電膜2のうち基板1側には窒素(N)を含み、表面側には酸素(O)及び炭素(C)の少なくとも何れか一方を含む。この多層反射膜付き基板10の多層反射膜3上に、露光光を吸収する吸収体膜を形成することにより露光用反射型マスクブランクスが得られる。また、この露光用反射型マスクブランクスの吸収体膜にパターンを形成することにより露光用反射型マスクが得られる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板上に、露光光を反射する多層反射膜を有する多層反射膜付き基板であって、前記基板を挟んで前記多層反射膜と反対側に、前記基板の少なくとも周縁部を除く領域に導電膜が形成されていることを特徴とする多層反射膜付き基板。

IPC (3件)：

H01L21/027 , G03F1/16 , G21K1/06

FI (3件)：

H01L21/30 531M , G03F1/16 A , G21K1/06 B

Fターム (17件)：

2H095BA10 , 2H095BC17 , 2H095BC27 , 4K029AA09 , 4K029AA24 , 4K029BA41 , 4K029BA55 , 4K029BA58 , 4K029BB02 , 4K029BC03 , 4K029BD09 , 4K029CA06 , 4K029DC37 , 4K029EA03 , 4K029JA01 , 5F046GD10 , 5F046GD17

引用特許：

出願人引用 (1件)

反射マスク基板のコーティング
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-501941 出願人：ザリージェンツオブザユニバーシティオブカリフォルニア

審査官引用 (15件)

多層膜付き基板、露光用反射型マスクブランク、露光用反射型マスクおよびその製造方法、並びに半導体の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-351650 出願人：ホーヤ株式会社
位相シフトフォトマスク、位相シフトフォトマスク用ブランクス及びそれらの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-031428 出願人：大日本印刷株式会社
特開昭59-003437

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