特許
J-GLOBAL ID：200903016118350536

レーザー露光装置及びその方法

発明者：
城田 浩行

城田 浩行 について

, 
山本 正昭

山本 正昭 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-151319
公開番号（公開出願番号）：特開2000-338432
出願日： 1999年05月31日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
要約：
【要約】【課題】 主走査方向に対するレーザービームの傾きを検出することにより、レーザービームの位置ずれ量を正確に補正して描画パターンの微細化を図ることができる。【解決手段】 レーザービームをポリゴンミラー67で主走査方向に偏向させつつ描画ステージ5上の基板Sに照射させるとともに、描画ステージ5を移動させてパターンを描画するレーザー露光装置において、シリンドリカルレンズ73を通ったレーザービームLBについて副走査方向への位置ずれ量を検出する検出部91を主走査方向に2つ備えるとともに、シリンドリカルレンズ73から描画ステージ5上に照射されるレーザービームLBを副走査方向に移動させる位置補正機構81と、検出された位置ずれ量に応じて位置補正機構81を制御し、レーザービームLBの位置ずれ量を補正するシステム制御部とを備えている。
請求項（抜粋）：
レーザービームをラスターデータに基づき変調手段で変調し、この変調されたレーザービームを偏向手段で主走査方向に偏向させつつ載置台上の処理対象物に対して結像光学系を通して照射させるとともに、副走査方向にレーザービームと載置台とを移動手段で相対的に移動させることにより所望のパターンを前記処理対象物に描画するレーザー露光装置において、前記結像光学系を通ったレーザービームについて副走査方向への位置ずれ量を検出する検出手段を主走査方向に少なくとも2つ備えるとともに、前記結像光学系から載置台上に照射されるレーザービームを副走査方向に移動させる位置補正手段と、前記検出手段によって検出された位置ずれ量に応じて前記位置補正手段を制御し、レーザービームの位置ずれ量を補正する制御手段と、を備えていることを特徴とするレーザー露光装置。
IPC (5件)：
G02B 26/10 ,  G02B 26/10 102 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G02B 26/10 A ,  G02B 26/10 102 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 9/00 Z ,  H01L 21/30 529
Fターム (15件)：
2H045AA01 ,  2H045CA04 ,  2H045CA15 ,  2H045CA67 ,  2H045CA82 ,  2H045CA92 ,  2H097AA03 ,  2H097AB07 ,  2H097CA17 ,  2H097KA01 ,  2H097LA09 ,  5F046CB02 ,  5F046CB12 ,  5F046DA30 ,  5F046DB05
引用特許：
審査官引用 (8件)
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