特許

J-GLOBAL ID：200903016236075752

フォトレジスト用樹脂溶液及びその製造方法

発明者： 水谷 能久 ,  栗原 一
出願人/特許権者： ダイセル化学工業株式会社
代理人 (2件)： 後藤 幸久 ,  壬生 優子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-351945
公開番号（公開出願番号）：特開2007-154061
出願日： 2005年12月06日
公開日（公表日）： 2007年06月21日
要約：

【課題】 微小パーティクル含有量が極めて少ないフォトレジスト用樹脂溶液を得る。【解決手段】 酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となる基を含む繰り返し単位Aと、極性基を有する脂環式骨格を含む繰り返し単位Bとを少なくとも含有するフォトレジスト用樹脂を塗膜形成用溶媒に溶解したフォトレジスト用樹脂溶液であって、サイズ0.06μm以上のパーティクルの含有量(樹脂濃度20重量%換算)が5000個/ml以下であり、且つ前記フォトレジスト用樹脂の分子量分布が1.5〜2.5であるフォトレジスト用樹脂溶液。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となる基を含む繰り返し単位Aと、極性基を有する脂環式骨格を含む繰り返し単位Bとを少なくとも含有するフォトレジスト用樹脂を塗膜形成用溶媒に溶解したフォトレジスト用樹脂溶液であって、サイズ0.06μm以上のパーティクルの含有量(樹脂濃度20重量%換算)が5000個/ml以下であり、且つ前記フォトレジスト用樹脂の分子量分布が1.5〜2.5であるフォトレジスト用樹脂溶液。

IPC (4件)：

C08F 220/28 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

C08F220/28 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 502R

Fターム (21件)：

2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB56 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11R ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53R ,  4J100CA05 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100FA30 ,  4J100GC35 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (3件)

• ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-188853   出願人：日本電気株式会社
• 写真焼付装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-228092   出願人：株式会社コパル
• レジスト用ポリマー及び感放射線性レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-309288   出願人：丸善石油化学株式会社

審査官引用 (6件)

• ホトレジスト組成物の製造方法、ろ過装置、塗布装置及びホトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-416583   出願人：東京応化工業株式会社
• 脂環族系重合体中の金属除去方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-231057   出願人：ジェイエスアール株式会社
• レジスト用ポリマー及び感放射線性レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-309288   出願人：丸善石油化学株式会社
• レジスト用共重合体およびその製造方法、レジスト組成物ならびにパターン製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-002389   出願人：三菱レイヨン株式会社
• レジスト組成物、積層体、及びレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-194256   出願人：東京応化工業株式会社
• フォトレジスト用重合体合成用(メタ)アクリル酸エステルとその製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-121252   出願人：ダイセル化学工業株式会社