特許
J-GLOBAL ID：200903061915032561

レジスト用共重合体およびその製造方法、レジスト組成物ならびにパターン製造方法

発明者：
百瀬 陽

百瀬 陽 について

, 
上田 昭史

上田 昭史 について

, 
藤原 匡之

藤原 匡之 について


出願人/特許権者：
三菱レイヨン株式会社

三菱レイヨン株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-002389
公開番号（公開出願番号）：特開2004-231950
出願日： 2004年01月07日
公開日（公表日）： 2004年08月19日
要約：
【課題】 DUVエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等に用いた場合に、レジストの高い感度および/または解像度が損なわれることなく、レジスト溶剤への溶解性、レジスト溶液中でのマイクロゲル生成の抑制、ドライエッチング処理後のレジスト膜表面荒れの低減、熱処理によるレジストパターンの直立性、ラインエッジラフネスに優れたレジスト用共重合体を提供する。【解決手段】 脂環式骨格を有する単量体単位またはラクトン骨格を有する単量体単位を含むレジスト用共重合体であって、該レジスト用共重合体が、アクリル単量体単位を20モル%以上68モル%以下含むことを特徴とするレジスト用共重合体。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
脂環式骨格を有する単量体単位を含むレジスト用共重合体であって、該レジスト用共重合体が、アクリル単量体単位を20モル%以上68モル%以下含むことを特徴とするレジスト用共重合体。
IPC (4件)：
C08F220/10 ,  C08F2/00 ,  G03F7/033 ,  H01L21/027
FI (4件)：
C08F220/10 ,  C08F2/00 A ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 502R
Fターム (55件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J011AA05 ,  4J011AB02 ,  4J011BA07 ,  4J011BB01 ,  4J011BB02 ,  4J011BB12 ,  4J011BB15 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL04Q ,  4J100AL05Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL09Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03R ,  4J100BA04P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA04R ,  4J100BA05Q ,  4J100BA06Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA16P ,  4J100BA16R ,  4J100BA20P ,  4J100BA20Q ,  4J100BA20R ,  4J100BA40P ,  4J100BB18Q ,  4J100BC02P ,  4J100BC03P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC12P ,  4J100BC28P ,  4J100BC52P ,  4J100BC53R ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100FA35 ,  4J100FA39 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (15件)
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