特許
J-GLOBAL ID:200903016566201061
ビームの測定方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
井島 藤治 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-079076
公開番号(公開出願番号):特開平11-271459
出願日: 1998年03月26日
公開日(公表日): 1999年10月08日
要約:
【要約】【課題】 短時間にカーブフィッティング法によってビームサイズやビーム位置やフォーカス状態を正しく測定することができるビームの測定方法を実現する。【解決手段】 カーブフィッティング処理は、波形メモリー8に記憶されたファラデーカップ6の検出信号が制御CPU9によって読み出され、制御CPU9により、検出信号とモデル化された信号とのフィッティング処理が行われる。この時、事前に測定されたビーム位置が初期値として用いられる。
請求項(抜粋):
ビームを直線状のエッジを有した部材を横切って走査し、この走査に伴って検出されたビームの信号の変化に対してカーブフィッティングを施し、荷電粒子ビームのビームサイズ、ビーム位置、フォーカス情報の少なくともいずれかを測定するようにしたビームの測定方法において、あらかじめビームの位置を測定し、測定されたビーム位置を初期値としてカーブフィッティング処理を施すようにしたことを特徴とするビーム測定方法。
IPC (2件):
FI (2件):
G01T 1/29 B
, H01L 21/30 541 N
引用特許:
審査官引用 (16件)
-
荷電粒子ビームの測定方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-328632
出願人:日本電子株式会社
-
ビームの測定方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-079076
出願人:日本電子株式会社
-
X線による薄膜の解析方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-057993
出願人:旭化成工業株式会社
-
荷電粒子の軌跡判別方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-061007
出願人:三菱電機株式会社
-
ビームの測定方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-079078
出願人:日本電子株式会社
-
集束ビームのフォーカス調整方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-003078
出願人:日本電子株式会社
-
荷電粒子線径計測方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-123240
出願人:株式会社日立製作所
-
特開平4-270985
-
特開平3-095478
-
微細構造の構造寸法計測方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-216923
出願人:日本電信電話株式会社
-
放射線撮像装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-265758
出願人:株式会社島津製作所
-
特開昭55-069076
-
特開昭56-107185
-
特開昭56-107184
-
特開昭63-237526
-
特開昭54-107677
全件表示
前のページに戻る