特許
J-GLOBAL ID：200903016707508174

露光方法及び露光装置、デバイス製造方法

発明者：
白石 健一

白石 健一 について

, 
長坂 博之

長坂 博之 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-188109
公開番号（公開出願番号）：特開2005-286286
出願日： 2004年06月25日
公開日（公表日）： 2005年10月13日
要約：
【課題】投影光学系の下面と基板表面との間を水や有機溶媒などの液体で満たす液浸法において、液体の圧力に起因する露光精度及び計測精度の劣化を防止できる露光方法を提供する。【解決手段】投影光学系PLと液体LQとを介して基板P上に露光光を照射して基板Pを露光する露光方法において、基板P上の液体LQが基板Pに及ぼす力が低減されるように、基板Pの表面の液体LQに対する親和性を設定する。基板と液体との親和性に応じて液体が基板に及ぼす力が変化することを利用して、基板上の液体がその基板に及ぼす力を低減するように基板の表面の液体に対する親和性を設定することで、基板の変形、基板ステージの変形、振動の発生を防止することができる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
投影光学系と液体とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光方法において、 前記基板上の液体が前記基板に及ぼす力が低減されるように、前記基板の表面の前記液体に対する親和性を設定することを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (3件)：
H01L21/30 515D ,  G03F7/20 501 ,  H01L21/30 516F
Fターム (9件)：
2H097BA02 ,  2H097EA01 ,  2H097LA10 ,  2H097LA11 ,  5F046BA03 ,  5F046CB01 ,  5F046CB25 ,  5F046DA12 ,  5F046DA27
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (8件)
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