特許
J-GLOBAL ID：200903016787950972
リンス処理方法、現像処理方法、現像処理装置、制御プログラムおよびコンピュータ読取可能な記憶媒体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-326508
公開番号（公開出願番号）：特開2007-134516
出願日： 2005年11月10日
公開日（公表日）： 2007年05月31日
要約：
【課題】レジストの表面状態に関わらず現像残渣による現像欠陥を少なくすることができるリンス処理方法を提供すること。【解決手段】露光パターンを現像処理した後の基板をリンス処理するリンス処理方法は、現像終了後、現像液パドルが存在している基板を停止した状態または回転させた状態とし、基板の中心部にリンス液を供給する工程(ステップ5)と、基板上の少なくとも外側部分に現像液パドルが残存している状態でリンス液の供給を停止する工程(ステップ6)と、基板を高速回転させて基板上の現像液をリンス液とともに振り切る工程(ステップ7)とを有する。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
基板上に形成された露光パターンを有するレジスト膜上に現像液パドルを形成して現像処理した後の基板をリンス処理するリンス処理方法であって、
現像終了後、前記現像液パドルが存在している基板を停止した状態または回転させた状態とし、基板の中心部にリンス液を供給する工程と、
基板上の少なくとも外側部分に現像液パドルが残存している状態でリンス液の供給を停止する工程と、
基板を高速回転させて基板上の現像液をリンス液とともに振り切る工程と
を有することを特徴とするリンス処理方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 569F
, G03F7/32 501
2H096AA25
, 2H096GA17
, 5F046LA03
, 5F046LA05
, 5F046LA14
出願人引用 (1件)
審査官引用 (6件)
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