特許
J-GLOBAL ID：200903017614623158
フォトマスクの欠陥修正方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-146660
公開番号（公開出願番号）：特開2005-326773
出願日： 2004年05月17日
公開日（公表日）： 2005年11月24日
要約：
【課題】レーザー光やイオンビームを用いたフォトマスクの黒欠陥部の修正方法において生じる、ガラス基板ダメージ、ガリウムステイン、リバーベッド、透過率低下等の問題のない修正方法を提供する。【解決手段】フォトマスク上にポジ型レジストを塗布してレジスト膜を形成する工程と、該レジスト膜を形成したフォトマスク基板を走査型電子顕微鏡を有する装置内に設置し、前記黒欠陥部の二次電子像を取り込み修正すべき領域を決定する工程と、前記修正すべき領域にアシストガスを吹きつけながら電子線を照射し、修正すべき領域のレジスト部分を除去し黒欠陥部を露出する工程と、該露出した黒欠陥部をエッチング除去する工程と、前記レジスト膜を除去する工程と、を有することを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
黒欠陥部を有するフォトマスクの欠陥修正方法であって、
前記フォトマスク上にポジ型レジストを塗布してレジスト膜を形成する工程と、
該レジスト膜を形成したフォトマスク基板を走査型電子顕微鏡を有する装置内に設置し、前記黒欠陥部の二次電子像を取り込み修正すべき領域を決定する工程と、
前記修正すべき領域にアシストガスを吹きつけながら電子線を照射し、修正すべき領域のレジスト部分を除去し黒欠陥部を露出する工程と、
該露出した黒欠陥部をエッチング除去する工程と、
前記レジスト膜を除去する工程と、を有することを特徴とするフォトマスクの欠陥修正方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
2H095BD04
, 2H095BD14
, 2H095BD32
, 2H095BD35
, 2H095BD39
出願人引用 (2件)
審査官引用 (7件)
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引用文献：
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