電子線用レジスト組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-218855
公開番号（公開出願番号）：特開2002-031892
出願日： 2000年07月19日
公開日（公表日）： 2002年01月31日
要約：

【要約】【課題】感度や解像度に優れるとともに、良好なプロファイル及び高い残膜率を与えるなど、優れた特性を有する電子線用レジスト組成物を提供する【解決手段】下式(I)及び下式(II)(式中、R1及びR3は互いに独立に、水素又は炭素数1〜4のアルキルを表し、R2及びR4は互いに独立に、水素、炭素数1〜4のアルキル、炭素数1〜4のアルコキシ、全炭素数2〜5のアルコキシカルボニル、全炭素数1〜5のアシル、全炭素数1〜5のアシルオキシ、ニトロ、シアノ、フッ素、塩素又は臭素を表す)で示される各構造単位を有する樹脂(A)及び電子線の作用により酸を発生する酸発生剤(B)を含有することを特徴とする、電子線用フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

下式(I)及び下式(II)(式中、R1及びR3は互いに独立に、水素又は炭素数1〜4のアルキルを表し、R2及びR4は互いに独立に、水素、炭素数1〜4のアルキル、炭素数1〜4のアルコキシ、全炭素数2〜5のアルコキシカルボニル、全炭素数1〜5のアシル、全炭素数1〜5のアシルオキシ、ニトロ、シアノ、フッ素、塩素又は臭素を表す)で示される各構造単位を有する樹脂(A)及び電子線の作用により酸を発生する酸発生剤(B)を含有することを特徴とする、電子線用フォトレジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/039 601 , C08F212/14 , C08K 5/00 , C08L 25/18 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/039 601 , C08F212/14 , C08K 5/00 , C08L 25/18 , G03F 7/004 501 , H01L 21/30 502 R

Fターム (32件)：

2H025AA00 , 2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC06 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J002BC121 , 4J002EB116 , 4J002EQ016 , 4J002EU186 , 4J002EV216 , 4J002EV246 , 4J002EV296 , 4J002EY026 , 4J002FD200 , 4J002FD206 , 4J002GP03 , 4J002HA05 , 4J100AB07P , 4J100AB07Q , 4J100BA02Q , 4J100BA06Q , 4J100CA04 , 4J100FA03 , 4J100JA37

引用特許：

審査官引用 (9件)

感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-361467 出願人：ジェイエスアール株式会社
感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-252601 出願人：ジェイエスアール株式会社
ポリスチレン系高分子化合物及び化学増幅ポジ型レジスト材料並びにパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-299178 出願人：信越化学工業株式会社

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