特許
J-GLOBAL ID：200903037183506362
化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-261757
公開番号（公開出願番号）：特開2000-010270
出願日： 1998年09月16日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：
【要約】【課題】 露光余裕度及び解像度に優れる化学増幅型のポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 下式(I)(式中、R1 及びR2 は互いに独立に、アルキル又はシクロアルキルを表すが、両者の合計炭素数は4〜10である)で示される構造単位を有し、アルカリに対して不溶性又は難溶性の状態から、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂(A)、酸発生剤(B)及び、下式(II)(式中、Rは炭化水素残基を表す)で示される基を有し、光の作用で分解してアミンを生じる光塩基発生剤(C)を含有するポジ型フォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
下式(I)(式中、R1 及びR2 は互いに独立に、アルキル又はシクロアルキルを表すが、両者の合計炭素数は4〜10である)で示される構造単位を有し、アルカリに対して不溶性又は難溶性の状態から、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂(A)、酸発生剤(B)及び、下式(II)(式中、Rは炭化水素残基を表す)で示される基を有し、光の作用で分解してアミンを生じる光塩基発生剤(C)を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/004 503
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
G03F 7/004 503 B
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
2H025AA00
, 2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA10
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025CA01
, 2H025CA06
, 2H025CA07
, 2H025CB16
, 2H025CB17
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025CB53
, 2H025CC20
