特許
J-GLOBAL ID：200903018243508500

水素発生方法および装置

発明者：
江口 正浩

江口 正浩 について

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長谷部 吉昭

長谷部 吉昭 について

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目黒 裕章

目黒 裕章 について


出願人/特許権者：
オルガノ株式会社

オルガノ株式会社 について


代理人 (1件)： 伴 俊光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-364840
公開番号（公開出願番号）：特開2006-008495
出願日： 2004年12月16日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】水素発生のための必要エネルギー量が小さく、かつ設備が非常に簡単で、しかも水素発生のための原材料も安価で入手の容易なもので済む、極めて効率のよい水素発生方法および装置を提供する。【解決手段】金属(とくに、鉄)と水と、pH緩衝作用を有する物質、または腐植物質、またはアミノ酸含む物質、またはリン酸水素化合物を含む物質を互いに接触させて水素を発生させることを特徴とする水素発生方法、および水素発生方法装置。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
金属を含む液相または固相の物質と水を含む液相または固相の物質を互いに接触させて水素を発生させる方法において、少なくともpH緩衝作用を有する物質を添加することを特徴とする水素発生方法。
IPC (1件)：
C01B 3/08
FI (1件)：
C01B3/08 Z
Fターム (2件)：
5H027AA02 ,  5H027BA13
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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