特許
J-GLOBAL ID：200903018310594271

現像処理装置および現像処理方法

発明者：
藤本 昭浩

藤本 昭浩 について

, 
木村 義雄

木村 義雄 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-147789
公開番号（公開出願番号）：特開2001-332469
出願日： 2000年05月19日
公開日（公表日）： 2001年11月30日
要約：
【要約】【課題】 露光処理された基板の現像処理に際して、使用された現像液の効率的な再利用を可能とした現像処理装置および現像処理方法を提供する。【解決手段】 現像処理装置90は、露光処理された基板の保持手段および基板に現像液を塗布する現像液塗布手段ならびに現像液が塗布された基板にリンス液を塗布するリンス液塗布手段を有する現像処理ユニット(DEV)と、現像処理ユニット(DEV)から排出された使用済み現像液を回収する回収部80と、回収部80に貯留された使用済み現像液と基板に塗布される現像液よりも高濃度に調整された濃度調整用現像液とを混合して、所定濃度の現像液を製造する現像液再生部30と、現像液再生部30において製造された再生現像液を現像処理ユニット(DEV)における現像液塗布手段に送液する現像液供給部40を具備する。
請求項（抜粋）：
露光処理された基板に現像液およびリンス液を塗布して現像処理を行う現像処理部と、前記現像処理部から排出される使用済み現像液と高濃度に調整された濃度調整用現像液とを混合して所定濃度の現像液を製造する現像液再生部と、を具備することを特徴とする現像処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/30 502
FI (2件)：
G03F 7/30 502 ,  H01L 21/30 569 C
Fターム (13件)：
2H096AA25 ,  2H096GA29 ,  2H096GA30 ,  2H096LA19 ,  2H096LA25 ,  5F046CD01 ,  5F046CD03 ,  5F046JA22 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04 ,  5F046LA05 ,  5F046LA07 ,  5F046LA18
引用特許：
審査官引用 (6件)
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