特許
J-GLOBAL ID：200903018463649369

走査型露光装置およびデバイス製造方法

発明者：
武石 洋明

武石 洋明 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-208037
公開番号（公開出願番号）：特開2000-040650
出願日： 1998年07月23日
公開日（公表日）： 2000年02月08日
要約：
【要約】【課題】 走査型露光装置において、主に干渉計測の改良によって走査露光の転写精度を向上させる。【解決手段】 被露光基板を保持して移動可能な第1ステージと、原版を保持して移動可能な第2ステージと、該披露光基板上に原版の像を投影する投影光学系とを備え、該投影光学系に対して該第1ステージと該第2ステージを移動しながら走査露光する走査型露光装置において、前記第1ステージの位置または姿勢を計測するレーザ干渉計用の第1のレーザヘッドと、前記第2ステージの位置または姿勢を計測するレーザ干渉計用の第2のレーザヘッドとを備える。もしくは、前記第1又は第2ステージのX方向の位置を計測するレーザ干渉計用の第1のレーザヘッドと、該第1又は第2ステージのY方向の位置を計測するレーザ干渉計用の第2のレーザヘッドとを備える。そして該第1及び第2のレーザヘッドの駆動を同期させる。
請求項（抜粋）：
被露光基板を保持して移動可能な第1ステージと、原版を保持して移動可能な第2ステージと、該披露光基板上に原版の像を投影する投影光学系とを備え、該投影光学系に対して該第1ステージと該第2ステージを共に移動しながら走査露光する走査型露光装置において、前記第1ステージの位置または姿勢を計測するレーザ干渉計用の第1のレーザヘッドと、前記第2ステージの位置または姿勢を計測するレーザ干渉計用の第2のレーザヘッドと、該第1及び第2のレーザヘッドを同期して駆動する手段を備えたことを特徴とする走査型露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/22
FI (3件)：
H01L 21/30 518 ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 516 B
Fターム (9件)：
5F046AA23 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC05 ,  5F046CC13 ,  5F046CC16
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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