特許
J-GLOBAL ID：200903018501468462
ネガ型レジスト組成物、レジストパターンの形成方法及び電子デバイスの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-257661
公開番号（公開出願番号）：特開2001-154357
出願日： 2000年08月28日
公開日（公表日）： 2001年06月08日
要約：
【要約】【課題】 実用可能な感度を有していて、膨潤のない微細なネガ型レジストパターンを形成できるレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (1)アルカリ可溶性基を分子内に有する第1のモノマー単位及び前記アルカリ可溶性基と反応し得るアルコール構造を側鎖に有する第2のモノマー単位を含む自体塩基性水溶液に可溶な皮膜形成性重合体と、(2)結像用放射線を吸収して分解すると、前記第2のモノマー単位のアルコール構造と前記アルカリ可溶性基を有する第1のモノマー単位の反応を誘起し得るかもしくは前記第1のモノマー単位のアルカリ可溶性基を保護し得る酸を発生可能な光酸発生剤とを含んでなるように構成する。
請求項（抜粋）：
(1)アルカリ可溶性基を有する第1のモノマー単位及び前記アルカリ可溶性基と反応し得るアルコール構造を有する第2のモノマー単位を含む自体塩基性水溶液に可溶な皮膜形成性重合体と、(2)結像用放射線を吸収して分解すると、前記第2のモノマー単位のアルコール構造と前記第1のモノマー単位のアルカリ可溶性基との反応を誘起し得るかもしくは前記第1のモノマー単位のアルカリ可溶性基を保護し得る酸を発生可能な光酸発生剤とを含んでなり、かつ自体塩基性水溶液に可溶であるが、前記結像用放射線に露光されると、前記光酸発生剤の作用の帰結として露光部が塩基性水溶液に不溶となることを特徴とする、塩基性水溶液で現像可能なネガ型レジスト組成物。
IPC (13件)：
G03F 7/038 601
, C08K 5/02
, C08K 5/05
, C08K 5/3492
, C08K 5/375
, C08K 5/42
, C08L 25/18
, C08L 33/02
, C08L 33/04
, C08L 35/00
, C08L 45/00
, G03F 7/40 521
, H01L 21/027
G03F 7/038 601
, C08K 5/02
, C08K 5/05
, C08K 5/3492
, C08K 5/375
, C08K 5/42
, C08L 25/18
, C08L 33/02
, C08L 33/04
, C08L 35/00
, C08L 45/00
, G03F 7/40 521
, H01L 21/30 502 R
