特許
J-GLOBAL ID：200903018825843231
基板乾燥方法および基板乾燥装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲岡 耕作
, 川崎 実夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-314567
公開番号（公開出願番号）：特開2008-128567
出願日： 2006年11月21日
公開日（公表日）： 2008年06月05日
要約：
【課題】基板表面に残留しているリンス液を短時間で排除することができ、これにより、基板処理の生産性の向上に寄与することができる基板乾燥方法および基板乾燥装置を提供する。【解決手段】この基板処理装置は、基板Wを保持して回転させる基板保持回転機構2と、基板Wに閃光を照射する光照射部7と、基板Wに純水、IPAおよびHFEを順に供給する処理液供給機構3と、基板Wに薬液を供給する薬液供給機構4とを備えている。基板Wは、微細な凹部が表面に形成されたものである。光照射部7は、閃光を発生するフラッシュランプ35を備えている。このフラッシュランプ35からの閃光を基板Wに向けて照射することにより、基板W表面のリンス液およびHFEが沸騰して蒸気化し、微細な凹部内の液成分が押し出される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
表面にリンス液が残留している基板を基板保持手段で保持する工程と、
前記基板保持手段に保持されている前記基板に向けて、閃光またはレーザ光を照射して前記基板の表面を加熱し、当該基板の表面近傍の液を沸騰させる光照射工程とを含む、基板乾燥方法。
IPC (3件)：
F26B 3/28
, F26B 21/14
, F26B 5/08
F26B3/28
, F26B21/14
, F26B5/08
3L113AA04
, 3L113AB08
, 3L113AC10
, 3L113AC47
, 3L113BA34
, 3L113CB06
, 3L113DA10
出願人引用 (1件)
審査官引用 (8件)
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