特許
J-GLOBAL ID：200903018965706412

熱処理装置および熱処理方法

発明者：
新屋 浩

新屋 浩 について

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相馬 康孝

相馬 康孝 について

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北野 高広

北野 高広 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-327194
公開番号（公開出願番号）：特開2003-133197
出願日： 2001年10月25日
公開日（公表日）： 2003年05月09日
要約：
【要約】【課題】 CD均一性を向上させる熱処理を可能とする熱処理装置および熱処理方法を提供する。【解決手段】 本発明の熱処理装置の一実施形態であるプリベークユニット(PB)は、ウエハWを略水平に保持する載置プレート34と、ウエハWを収容するチャンバ30と、ガス透過性を有し、ウエハWに形成されたレジスト膜を直接に加熱できるようにチャンバ30内においてウエハWの上方に配置されるホットプレート31と、チャンバ30の上面に設けられた排気口33とを具備する。レジスト膜がホットプレート31によって加熱された際にレジスト膜から発生するガスは水平方向に大きく流れる気流を生ずることなく、ホットプレート31を透過して、その後にチャンバ30外へ排出される。これにより均一な膜質を有するレジスト膜が得られる。
請求項（抜粋）：
表面に塗布膜の形成された基板を熱処理する熱処理装置であって、前記基板を略水平に保持する保持部材と、前記保持部材に保持された基板を収容するチャンバと、前記基板に形成された塗布膜を直接に加熱できるように前記チャンバ内において前記保持部材に保持された基板の上方に配置されるホットプレートと、前記ホットプレートの端面と前記チャンバの内壁面との間に設けられた所定幅の間隙部と、前記チャンバの上面に設けられ、前記チャンバの内部の排気を行う排気口と、を具備し、前記排気口から前記チャンバ内の排気を行うことによって前記チャンバ内は所定の減圧雰囲気に保持され、前記塗布膜が前記ホットプレートによって加熱された際に前記塗布膜から発生するガスは前記間隙部を通った後に前記チャンバ外へ排出されることを特徴とする熱処理装置。
Fターム (2件)：
5F046KA04 ,  5F046KA10
引用特許：
審査官引用 (8件)
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