特許
J-GLOBAL ID：200903019337597813
YAG第5高調波パルスレーザ蒸着による薄膜の作製方法およびその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-341661
公開番号（公開出願番号）：特開2001-158957
出願日： 1999年12月01日
公開日（公表日）： 2001年06月12日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 YAG第5高調波パルスレーザ蒸着による薄膜の作製方法およびその装置を提供する。【解決手段】 Nd:YAGなどのパルスレーザ光の波長の異る各調波を結合し、波長の短い第5高調波のみを分離する第1行程と、分光した第5高調波をレンズを使いターゲット上に集光し照射して、ターゲット物質をパルス的に分解し蒸発させて、そのまま、または素子パターン用のマスクを通して基板上に衝突させる第2行程と、を所定のパルスの回数だけ行い、または複数個のターゲットについて該操作を順次に行い、その物質の結晶性や非晶性の薄膜、素子パターンの薄膜、その積層薄膜を作製する方法と装置。
請求項（抜粋）：
Nd:YAGなどのパルスレーザ光の第4高調波(波長266nm)と基本波(波長1064nm)とを、あるいは第3高調波(355nm)と第2高調波(533nm)とを、非線形光学結晶により結合させてより波長の短い第5高調波(波長213nm)を発生させ、さらに、それら3つの光が混ざったレーザ光から分光手段で第5高調波のみを分離する第1行程と、基板をセットしその温度を制御できるヒータ付きの基板ホルダーと薄膜を作製しようとするタ-ゲット(標的物質)をセットできるターゲットホルダーとを具備しかつ低圧や真空まで排気できる真空チャンバーの中にあらかじめターゲットをセットしておき、分光した第5高調波をレンズを使いターゲット上に集光し照射して、ターゲット物質をパルス的に分解し蒸発(アブレーション)させて、そのまま、または素子パターン用のマスクを通して、基板上に衝突させる第2行程と、を所定のパルスの回数だけ行い、その物質の結晶性や非晶性の薄膜、または素子パターンを持つ薄膜を作製するようにしたことを特徴とするレーザ蒸着による薄膜の作製方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/28
, H01L 21/203 Z
4K029BB02
, 4K029DB20
, 5F103AA10
, 5F103BB08
, 5F103BB12
, 5F103BB34
, 5F103DD30
, 5F103RR04
, 5F103RR05
