特許
J-GLOBAL ID：200903019423607368

研磨クロス,ウェーハ研磨装置及びウェーハ製造方法

発明者：
川人 進一

川人 進一 について

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丸岡 大介

丸岡 大介 について

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田尻 知朗

田尻 知朗 について

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福永 寿也

福永 寿也 について


出願人/特許権者：
コマツ電子金属株式会社

コマツ電子金属株式会社 について


代理人 (1件)： 田中 秀晴
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-333791
公開番号（公開出願番号）：特開2006-147731
出願日： 2004年11月17日
公開日（公表日）： 2006年06月08日
要約：
【課題】 傷やポリッシングマークの発生を抑制し、高い平坦度のウェーハを供給することができる研磨クロス及びウェーハ研磨装置を提供する。【解決手段】 ウェーハWを研磨する研磨クロス12の外周部を、ダイヤモンド砥粒を電着させた研削プレート19によって円環状に研削することにより、外周部におけるクロス表面の高さを低くした。 これにより、研磨クロス12の外周部における研磨抵抗が低減し、ウェーハWの外周部における面ダレの少ない高平坦なウェーハを製造することができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被研磨物の被研磨面とクロス表面とを摺り合わせることによって前記被研磨面を研磨する研磨クロスにおいて、 前記研磨クロスの外周部におけるクロス表面の高さを低くしたことを特徴とする研磨クロス。
IPC (4件)：
H01L 21/304 ,  B24B 37/00 ,  B24D 3/00 ,  B24D 3/34
FI (4件)：
H01L21/304 622F ,  B24B37/00 C ,  B24D3/00 350 ,  B24D3/34 Z
Fターム (13件)：
3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058AA12 ,  3C058CB01 ,  3C058DA17 ,  3C063AA02 ,  3C063BA02 ,  3C063BB02 ,  3C063BG01 ,  3C063BG03 ,  3C063BG11 ,  3C063EE10 ,  3C063FF30
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (1件)
  • ウェーハ研磨装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-259581   出願人：三菱マテリアルシリコン株式会社

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