特許
J-GLOBAL ID:200903019611587188
非晶質炭素被覆部材の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
上代 哲司 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-005282
公開番号(公開出願番号):特開2001-192206
出願日: 2000年01月05日
公開日(公表日): 2001年07月17日
要約:
【要約】【課題】 非晶質炭素被覆部材において、基材にArイオンをエッチングした後に非晶質炭素膜を基材上に被覆する方法ではエッチング効果が低く、中間層を基材と非晶質炭素膜の間に形成する方法でも、機械部品や、切削工具、金型に対して実用可能な密着性が得られないという問題を有していた。【解決手段】 基材に負のバイアス電圧を印加することにより、基材表面にKr、Xe、CH4、C2H2、C2H4、C6H6、CF4から選択される1種以上のガスを少なくとも含む雰囲気ガスによるガスイオン、あるいは周期律表第IIIa、IVa、Va、VIa、IIIb、IVb族元素から選択される1種以上の元素イオン、あるいはガスイオンと元素イオンを複数組み合わせて照射した後、基材上に非晶質炭素膜を被覆する。
請求項(抜粋):
基材上に非晶質炭素膜を被覆する非晶質炭素被覆部材の製造方法であって、前記基材に負のバイアス電圧を印加することにより、基材表面にKr、Xe、CH4、C2H2、C2H4、C6H6、CF4から選択される1種以上のガスを含む雰囲気ガスによるガスイオンを照射した後、基材上に非晶質炭素膜を被覆することを特徴とする非晶質炭素被覆部材の製造方法。
IPC (3件):
C01B 31/02 101
, C23C 14/06
, C23C 16/27
FI (3件):
C01B 31/02 101 Z
, C23C 14/06 F
, C23C 16/27
Fターム (32件):
4G046CA01
, 4G046CA02
, 4G046CB03
, 4G046CB08
, 4G046CC06
, 4K029AA02
, 4K029BA26
, 4K029BA34
, 4K029BB01
, 4K029BB10
, 4K029BC02
, 4K029BD03
, 4K029BD04
, 4K029CA03
, 4K029CA05
, 4K029CA13
, 4K030AA04
, 4K030AA09
, 4K030AA24
, 4K030BA27
, 4K030BA55
, 4K030BA56
, 4K030BA57
, 4K030BA58
, 4K030CA02
, 4K030CA03
, 4K030CA05
, 4K030CA12
, 4K030DA04
, 4K030FA01
, 4K030HA04
, 4K030LA01
引用特許:
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