特許
J-GLOBAL ID：200903019846204200
リソグラフィ装置用の搬送システム及びデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-047175
公開番号（公開出願番号）：特開2005-244232
出願日： 2005年02月23日
公開日（公表日）： 2005年09月08日
要約：
【課題】リソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】特に、リソグラフィ装置とトラックの間で基板を搬送するように構成された搬送システムが開示され、このトラックは1つ又は複数の処理デバイスを備える。また、搬送システムは、トラック内の処理デバイスの間で基板を搬送することもできる。1つの実施例では、搬送システムが備える搬送装置通路に沿って、1つ又は複数のトラック及びリソグラフィ装置が間隔をあけて配置されている。基板は、基板を保持するように構成された搬送デバイスによって、搬送装置通路に沿って搬送することができる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
放射ビームを供給するように構成された照明装置、
パターン形成デバイスを保持するように構成された支持構造であって、前記パターン形成デバイスが前記ビームの断面にパターンを与えるように構成されている支持構造、
基板を保持するように構成された基板テーブル、及び
前記パターン形成されたビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システム、を備えるリソグラフィ装置と、
1つ又は複数の処理デバイスを備えるトラックと、
前記トラックと前記リソグラフィ装置の間の細長い搬送装置通路に沿って、前記基板を搬送するように構成された搬送システムとを備えるリソセル。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 514D
, H01L21/68 A
, H01L21/30 562
5F031CA02
, 5F031FA12
, 5F031FA15
, 5F031GA51
, 5F031GA53
, 5F031GA62
, 5F031MA06
, 5F031MA09
, 5F031MA27
, 5F046BA03
, 5F046CD01
, 5F046CD05
