特許
J-GLOBAL ID：200903019890964123
多重角度および多重波長照射を用いるウェハ検査システムのためのシステムおよび方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井ノ口 壽
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-507532
公開番号（公開出願番号）：特表2004-531735
出願日： 2002年06月26日
公開日（公表日）： 2004年10月14日
要約：
基板(428)の上部表面(426)上の異常を検出する方法であって、第1の波長を有する第1の放射ビーム(414)を垂線から測定した第1の角度で基板(428)の上部表面(426)に照射する工程と、第2の波長を有する第2の放射ビーム(418)を垂線から測定した第2の角度で基板(428)の上部表面(426)に照射する工程とを含み、第2の波長は第1の波長と等しくない。さらに、この方法は、粒子またはCOPの存在を検出して、その2つを区別するために、第1の放射ビーム(414)と第2の放射ビーム(418)とから散乱した放射を検出する工程とを含む。第1の放射ビーム(414)と第2の放射ビーム(418)から検出された散乱放射の差異から、粒子とCOPを区別するために必要なデータを得る。
請求項（抜粋）：
基板の上部表面上または前記基板の内部の異常を検出する方法であって、
第1の波長を有する第1の放射ビームを前記上部表面に対する垂線から測定した第1の角度で前記基板の前記上部表面へ照射する工程と、
第2の波長を有する第2の放射ビームを前記上部表面に対する垂線から測定した第2の角度で前記基板の前記上部表面へ照射する工程において、前記第2の波長が前記第1の波長に等しくならないようにする第2の放射ビームを照射する工程と、
前記第1の放射ビームから放射を検出する工程と、
前記第2の放射ビームから放射を検出する工程と、
を含むことを特徴とする基板の上部表面上または前記基板の内部の異常を検出する方法。
IPC (3件)：
G01N21/956
, G01N21/84
, H01L21/66
G01N21/956 A
, G01N21/84 E
, H01L21/66 J
2G051AA51
, 2G051AA56
, 2G051AB01
, 2G051AB06
, 2G051AB07
, 2G051BA01
, 2G051BA04
, 2G051BA05
, 2G051BA08
, 2G051BA10
, 2G051BB01
, 2G051BB03
, 2G051CA02
, 2G051CA03
, 2G051CB05
, 2G051CC12
, 2G051CC20
, 4M106AA01
, 4M106BA05
, 4M106BA07
, 4M106CA38
, 4M106DB02
, 4M106DB08
, 4M106DB21
