特許
J-GLOBAL ID：200903019903611624
低分子型有機EL素子製造の真空蒸着工程において使用するマスクの洗浄液組成物および洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
葛和 清司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-406394
公開番号（公開出願番号）：特開2005-162947
出願日： 2003年12月04日
公開日（公表日）： 2005年06月23日
要約：
【課題】低分子型有機EL素子製造の真空蒸着工程においてマスクに付着する種々の有機材料を、1種類の洗浄液で除去することができる、洗浄液組成物および洗浄方法を提供すること。【解決手段】低分子型有機EL素子製造の真空蒸着工程において使用するマスクの洗浄液組成物であって、非プロトン性極性溶剤を1種類または2種類以上含む前記洗浄液組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
低分子型有機EL素子製造の真空蒸着工程において使用するマスクの洗浄液組成物であって、非プロトン性極性溶剤を1種類または2種類以上含む、前記洗浄液組成物。
IPC (3件)：
C11D7/50
, H05B33/10
, H05B33/14
C11D7/50
, H05B33/10
, H05B33/14 A
3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA00
, 3K007FA01
, 4H003DA15
, 4H003DB03
, 4H003ED19
, 4H003ED30
, 4H003ED31
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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