イオン注入装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：後藤洋介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-158617
公開番号（公開出願番号）：特開平11-007915
出願日： 1997年06月16日
公開日（公表日）： 1999年01月12日
要約：

【要約】【課題】イオンビームの出射方向を固定とした状態で半導体ウェハに均一にイオン注入を行うことのできる枚葉式のイオン注入装置を提供すること。【解決手段】イオンビームの出射方向を固定とし、半導体ウェハ1をメカニカルに横方向と縦方向に移動させながら該半導体ウェハにイオン注入を行うために、前記半導体ウェハを保持しているウェハプラテン2を真空容器9内で等速度Vsにて前記横方向に往復運動させる揺動機構と、前記ウェハプラテンを前記揺動機構と共に前記縦方向に等速度Vuにて上下動させる上下駆動機構とを備えた。

請求項（抜粋）：

イオンビームの出射方向を固定とし、半導体ウェハをメカニカルに横方向と縦方向に移動させながら該半導体ウェハにイオン注入を行うイオン注入装置であって、前記半導体ウェハを保持しているウェハプラテンを真空容器内で等速度Vsにて前記横方向に往復運動させる揺動機構と、前記ウェハプラテンを前記揺動機構と共に前記縦方向に等速度Vuにて上下動させる上下駆動機構とを備えたことを特徴とするイオン注入装置。

IPC (2件)：

H01J 37/317 , H01L 21/265

FI (2件)：

H01J 37/317 B , H01L 21/265 603 D

引用特許：

審査官引用 (14件)

ホルダ駆動装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-254634 出願人：日新電機株式会社
イオン注入装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-116313 出願人：関西日本電気株式会社
イオン注入装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-305747 出願人：関西日本電気株式会社

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