特許
J-GLOBAL ID：200903020881038818

化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びスルホニウム塩

発明者：
上谷 保則

上谷 保則 について

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三浦 一朗

三浦 一朗 について

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大橋 賢治

大橋 賢治 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-313470
公開番号（公開出願番号）：特開2001-131143
出願日： 1999年11月04日
公開日（公表日）： 2001年05月15日
要約：
【要約】【課題】 エキシマレーザーリソグラフィ、特に220nm以下の波長の光を用いたリソグラフィに適した化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、感度や解像度などが良好であるものを提供し、さらに、このような化学増幅型ポジ型レジスト組成物の酸発生剤として有用な化合物を提供する【解決手段】 下式(I)(式中、Rはアルキルを表し、Q1 及びQ2 は互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル又は炭素数1〜6のアルコキシを表し、mは1〜8の整数を表す)で示されるジフェニルアルキルスルホニウム塩を含む酸発生剤及び、酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる重合体を主体とする樹脂を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物が提供され、さらに、上記式(I)中のmが4〜8である化合物も提供される。
請求項（抜粋）：
下式(I)(式中、Rはアルキルを表し、Q1 及びQ2 は互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル又は炭素数1〜6のアルコキシを表し、mは1〜8の整数を表す)で示されるジフェニルアルキルスルホニウム塩を含む酸発生剤及び、酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる重合体を主体とする樹脂を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
C07C381/12 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/039 601
FI (3件)：
C07C381/12 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/039 601
Fターム (16件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4H006AA03 ,  4H006AB92 ,  4H006TN30
引用特許：
審査官引用 (7件)
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