特許
J-GLOBAL ID：200903021196619987
平面光波回路プラットフォ-ム及びその作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-171529
公開番号（公開出願番号）：特開2000-081525
出願日： 1999年06月17日
公開日（公表日）： 2000年03月21日
要約：
【要約】【課題】 平面光波回路の特性が安定する平面光波回路プラットフォーム及びその作製方法を提供する。【解決手段】 基板1上に石英系下部クラッド層2、高さ調節層3、コア層4、上部クラッド層5を順次形成する工程を有する平面光波回路プラットフォームにおいて、高さ調整層3のガラス軟化温度がコア層4及び上部クラッド層5のガラス軟化温度よりも高い平面光波回路プラットフォームを提供する。
請求項（抜粋）：
基板上に石英系下部クラッド層、高さ調整層、コア層、上部クラッド層を順次形成してなる平面光波回路プラットフォームにおいて、高さ調整層のガラス軟化温度がコア層及び上部クラッド層のガラス軟化温度よりも高いことを特徴とする平面光波回路プラットフォーム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 6/12 A
, G02B 6/12 M
