特許
J-GLOBAL ID:200903021206870861
絶縁膜形成材料及び絶縁膜
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
後藤 幸久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-325519
公開番号(公開出願番号):特開2004-307804
出願日: 2003年09月18日
公開日(公表日): 2004年11月04日
要約:
【課題】 高い架橋度を有するポリベンズアゾール類を構成しうる成分からなり、特に層間絶縁膜用途として必要とされる膜厚を容易に形成しうる絶縁膜形成材料及び該材料から形成される絶縁膜を提供する。【解決手段】 本発明の絶縁膜形成材料は、有機溶媒に、下記式(1)【化1】(式中、Xは水素原子、炭化水素基、又はR4を示し、R1〜R4は、同一又は異なって、保護基で保護されていてもよいカルボキシル基等を示し、Y1〜Y4は、同一又は異なって、単結合又は2価の芳香族環式基を示す)で表されるアダマンタンポリカルボン酸誘導体と、下記式(2)【化2】(式中、環Zは単環または多環の芳香環を示し、R5〜R8は環Zに結合している置換基であって、同一又は異なって、保護基で保護されていてもよいアミノ基等を示す)で表される芳香族ポリアミン誘導体とを溶解して得られる重合性組成物からなることを特徴とする。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
有機溶媒に、下記式(1)
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (44件):
4J043PA15
, 4J043QB17
, 4J043QB21
, 4J043QB24
, 4J043QB31
, 4J043QB32
, 4J043QB39
, 4J043QB40
, 4J043QB45
, 4J043QB48
, 4J043RA42
, 4J043RA52
, 4J043RA57
, 4J043SA06
, 4J043SA08
, 4J043SA46
, 4J043SA47
, 4J043SA71
, 4J043SA83
, 4J043SB01
, 4J043TA06
, 4J043TA13
, 4J043TA14
, 4J043TA31
, 4J043TA33
, 4J043TA58
, 4J043TA61
, 4J043UA082
, 4J043UA131
, 4J043UB401
, 4J043VA021
, 4J043VA061
, 4J043XA03
, 4J043XA14
, 4J043XB27
, 4J043ZA12
, 4J043ZA46
, 4J043ZB11
, 4J043ZB47
, 4J043ZB50
, 5F058AA03
, 5F058AC10
, 5F058AF04
, 5F058AH02
引用特許:
出願人引用 (2件)
審査官引用 (8件)
全件表示
前のページに戻る