特許
J-GLOBAL ID：200903022098186750
ナノインプリント方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-375998
公開番号（公開出願番号）：特開2007-019451
出願日： 2005年12月27日
公開日（公表日）： 2007年01月25日
要約：
【課題】熱式ナノインプリントプロセスにおいて、プロセススループット向上と大面積化対応の両課題を同時に満足するプロセス技術の確立を目的とする。【解決手段】本発明は、その一実施形態において、次のようなナノインプリントシステムを含む。このナノインプリントシステムは、モールドをヘッドによって被成形物へ押し付けることで前記被成形物にパターンの転写を行なうナノインプリントシステムであって、前記ヘッドが前記モールドを押し付ける際に平坦な押し付け面を有すると共に、前記ヘッドを前記モールド上で摺動させつつ前記ヘッドが前記モールドを押し付けるように構成されることを特徴とする。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
ヘッドによってモールドを被成形物へ押し付けることで前記被成形物にパターンの転写を行なうナノインプリントシステムであって、前記ヘッドが前記モールドを押し付ける際に平坦な押し付け面を有すると共に、前記ヘッドを前記モールド上で摺動させつつ前記ヘッドが前記モールドを押し付けるように構成される、ナノインプリントシステム。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, B82B 3/00
, H01L 29/06
H01L21/30 502D
, B82B3/00
, H01L29/06 601N
出願人引用 (11件)
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ナノプリント装置、及び微細構造転写方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2003-078072
出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立インダストリイズ
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微細な凹凸の製造方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2002-295279
出願人：大日本印刷株式会社
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特開昭62-117154
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審査官引用 (10件)
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