特許
J-GLOBAL ID：200903022327815554

エレクトロルミネセンス表示装置の薄膜層をパターン形成するレーザ・アブレーション法

発明者：
ロヴェル,デーブ

ロヴェル,デーブ について

, 
ハント,テリー

ハント,テリー について


出願人/特許権者：
アイファイア テクノロジー コーポレーション

アイファイア テクノロジー コーポレーション について


代理人 (2件)： 小野 由己男 ,  稲積 朋子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-556203
公開番号（公開出願番号）：特表2005-513741
出願日： 2002年12月11日
公開日（公表日）： 2005年05月12日
要約：
【課題】 本発明は、厚膜誘電体エレクトロルミネセンス表示装置の薄膜層のパターン形成するレーザ・アブレーション法に関する。【解決手段】 厚膜誘電体エレクトロルミネセンス表示装置の薄膜蛍光体層をパターン形成するレーザ・アブレーション法は、薄膜蛍光体層を他の層の実質的な除去や破損なしにパターン形成するためのレーザ放射の波長、レーザ・パルス幅、レーザ・エネルギー密度、および十分なレーザ・パルス数を選択する段階を含み、レーザ放射の波長は、レーザ放射が実施的に薄膜蛍光体層によって吸収され他の層による吸収が最小になるようなものであり、レーザ・パルス幅は、レーザ・パルスの持続時間中に、薄膜蛍光体層から他の層への熱の流れが最小になる十分な短さであり、レーザ・エネルギー密度と十分なレーザ・パルス数は、薄膜蛍光体層内にエネルギーが投入され、薄膜蛍光体層の少なくとも一部分の厚さ全体が除去されるような十分な高さである。
請求項（抜粋）：
薄膜蛍光体層の他の層を有する厚膜誘電体エレクトロルミネセンス表示装置の薄膜蛍光体層をパターン形成するレーザ・アブレーション法であって、 薄膜蛍光体層を、他の層の実質的な除去(ablation)や破損なしにパターン形成するためにレーザ放射の波長、レーザ・パルス幅、レーザ・エネルギー密度、および十分なレーザ・パルス数を選択する段階を含み、 レーザ放射の波長が、レーザ放射が実質的に薄膜蛍光体層によって吸収され、他の層による吸収が最小になるようなものであり、 レーザ・パルス幅が、レーザ・パルスの持続時間中に、薄膜蛍光体層から他の層への熱の流れが最小になるのに十分な短さであり、 レーザ・エネルギー密度と十分なレーザ・パルス数が、エネルギーが薄膜蛍光体層に投入されるのに十分な高さであり、 薄膜蛍光体層の少なくとも一部分の厚さ全体が除去されるレーザ・アブレーション法。
IPC (7件)：
H05B33/10 ,  B23K26/00 ,  B23K26/12 ,  B23K26/36 ,  G09F9/00 ,  H05B33/14 ,  H05B33/28
FI (8件)：
H05B33/10 ,  B23K26/00 C ,  B23K26/00 H ,  B23K26/12 ,  B23K26/36 ,  G09F9/00 338 ,  H05B33/14 Z ,  H05B33/28
Fターム (19件)：
3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007DB01 ,  3K007DC04 ,  3K007FA00 ,  3K007FA01 ,  3K007FA03 ,  4E068AC01 ,  4E068CA01 ,  4E068CA03 ,  4E068CA04 ,  4E068CJ01 ,  4E068DA09 ,  4E068DB14 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435HH06 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10
引用特許：
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM