特許
J-GLOBAL ID：200903022538220182

撮像装置

発明者：
吉 田 英 明

吉 田 英 明 について


出願人/特許権者：
オリンパス光学工業株式会社

オリンパス光学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 福山 正博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-092022
公開番号（公開出願番号）：特開平9-261531
出願日： 1996年03月21日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：
【要約】【課題】簡素な構成で、且つ逆光シーン等を含む種々の被写体シーンに対して好適な露出を得ることのできる撮像装置を提供する。【構成】撮影画面を分割して各サブ測光エリアを設定し、この測光エリア毎のサブ測光値に対する各別に到達すべきサブ測光目標値をサブ目標値設定手段91で設定し、サブ目標値設定手段91によって設定された各サブ目標値とこれに対応する上記各サブ測光値との偏差の総和を演算して当該撮影すべき被写体に関する露出制御量を演算手段92で求め、演算手段92により求められた露出制御量に基づいて露出制御手段93により当該撮影に係る露出を制御する。
請求項（抜粋）：
撮影画面の全体乃至はその一部を複数の領域に分割してなる各領域をサブ測光エリアとし、該測光エリア毎に当該撮影すべき被写体の輝度に対応したサブ測光値を得るためのサブ測光手段と、上記サブ測光手段から出力された各サブ測光値に対して各別に到達すべきサブ測光目標値を設定するサブ目標値設定手段と、上記サブ目標値設定手段によって設定された各サブ目標値とこれに対応する上記各サブ測光値との偏差の総和を演算して当該撮影すべき被写体に関する露出制御量を求めるための演算手段と、上記演算手段により求められた露出制御量に基づいて当該撮影に係る露出を制御する露出制御手段と、を備えたことを特徴とする撮像装置。
引用特許：
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (5件)
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