有機反射防止重合体およびその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：恩田博宣 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-354493
公開番号（公開出願番号）：特開2001-098024
出願日： 1999年12月14日
公開日（公表日）： 2001年04月10日
要約：

【要約】【課題】有機拡散反射防止重合体を含む反射防止組成物、これを用いた反射防止膜およびその製造方法に関する。【解決手段】下記の化学式(i)、(ii)または(iii)を有する重合体。【化48】【化49】【化50】本発明による重合体を半導体製造工程中、超微細パタ-ン成形工程での反射防止膜として使用すれば、ウェ-ハ上の下部膜層の光学的性質およびレジスト厚さの変動による定在波、反射および下部膜に起因するCD変動を除去することによって、64M、256M、1G、4G、16G DRAMの安定された超微細パタ-ンが形成できるので、製品の歩留り率を増大することができる。

請求項（抜粋）：

下記の化学式39で表わされる9-アントラセンアルキルアクリレ-ト系の化合物。【化1】(上式中、RIは水素またはCH3、R1〜R9はそれぞれ水素、ヒドロキシ、メトキシカルボニル、カルボキシル、ヒドロキシメチル、または置換若しくは非置換された直鎖若しくは分岐鎖C1〜C5のアルキル、アルカン、アルコキシアルキルまたはアルコキシアルカン、mは1〜4の整数をそれぞれ示している。)

IPC (11件)：

C08F 20/12 , C07C 69/54 , C08F 8/00 , C08F220/14 , C08F220/28 , C08K 5/07 , C08L 33/04 , C09D 5/00 , C09D133/06 , G03F 7/11 503 , H01L 21/027

FI (11件)：

C08F 20/12 , C07C 69/54 Z , C08F 8/00 , C08F220/14 , C08F220/28 , C08K 5/07 , C08L 33/04 , C09D 5/00 M , C09D133/06 , G03F 7/11 503 , H01L 21/30 574

Fターム (51件)：

2H025AA00 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025BJ10 , 2H025CC02 , 2H025DA34 , 4H006AA01 , 4H006AA02 , 4H006AB46 , 4H006AC48 , 4H006BB24 , 4H006BB25 , 4H006BJ50 , 4H006BQ30 , 4H006KA14 , 4J002BG041 , 4J002BG051 , 4J002BG071 , 4J002EA057 , 4J002EA066 , 4J002EC036 , 4J002EE036 , 4J002EE037 , 4J002EE056 , 4J002EF096 , 4J002EL067 , 4J002FD207 , 4J002GQ05 , 4J038CG141 , 4J038CH081 , 4J038PB09 , 4J100AL03R , 4J100AL08P , 4J100AL09Q , 4J100BA13P , 4J100BC43P , 4J100BC48P , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA31 , 4J100FA03 , 4J100FA19 , 4J100FA28 , 4J100HA19 , 4J100HC09 , 4J100JA46 , 5F046PA01 , 5F046PA07 , 5F046PA09

引用特許：

審査官引用 (8件)

染色されたフォトレジストとその方法及びそれからなる工業製品
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-307762 出願人：シップレーカンパニーエルエルシー
光吸収性ポリマー、光吸収膜形成性組成物及び光吸収膜とそれを用いた反射防止膜
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-146800 出願人：クラリアントジャパン株式会社
特開昭54-113326

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