特許
J-GLOBAL ID：200903023295754244
描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
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公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-104132
公開番号（公開出願番号）：特開2002-292914
出願日： 2001年04月03日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
要約：
【要約】【課題】スクリーン印刷による描画では版代やその洗浄・保管に費用がかかるためにコストが高くなり、試作や少量生産が難しく、またレーザー光の熱によって変質させる描画では描画対象物を傷つけ、かつ不鮮明になるという課題を解決する。【解決手段】データ変換PC12でCADデータを図形データに変換し、レーザーマーカー16でインクが塗布されたインクテープにレーザー光を照射してインクを描画対象物18に転写して描画を行い、かつXY制御テーブル17で描画対象物18を移動させて描画するようにした。スクリーンが不要なためにコストを抑えることができ、かつレーザーマーカー16の描画範囲より広い範囲を一度に描画できるという効果がある。
請求項（抜粋）：
描画対象物にレーザー光線を照射して、この描画対象物に描画する描画装置において、片面にインクが塗布され前記描画対象物と前記レーザー光線を出力するレーザー光源との間に設けられたインクテープと、前記レーザー光線を前記インクテープを介して前記描画対象物の所定の範囲に照射するレーザー光走査部と、前記描画対象物を搭載し、前記描画対象物と前記レーザー光走査部との相対位置を変化させるXY制御テーブルとを有し、前記レーザー光線を前記インクテープに照射して、このインクテープに塗布された前記インクを前記描画対象物に転写すると共に、前記XY制御テーブルを操作して前記レーザー光走査部がレーザー光を照射できる範囲よりも広い範囲を描画できるようにしたことを特徴とする描画装置。
IPC (5件)：
B41J 2/32
, B23K 26/00
, B23K 26/08
, B23K 26/18
, B41J 2/44
B23K 26/00 B
, B23K 26/08 F
, B23K 26/18
, B41J 3/20 109 A
, B41J 3/00 Q
2C065AD07
, 2C065AF01
, 2C065CA03
, 2C065CA07
, 2C065CA13
, 2C362BA21
, 2C362BA29
, 2C362CB47
, 2C362CB67
, 4E068AB00
, 4E068CE02
, 4E068CE04
, 4E068CF03
