特許
J-GLOBAL ID:200903024153476677
テキスタイル被覆上の自浄性表面の製造
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
矢野 敏雄
, 山崎 利臣
, 久野 琢也
, アインゼル・フェリックス=ラインハルト
, ラインハルト・アインゼル
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-542278
公開番号(公開出願番号):特表2005-538271
出願日: 2003年07月26日
公開日(公表日): 2005年12月15日
要約:
本発明は、被覆されたテキスタイル平面構築物上の自浄性表面の製造法において、前記製造法が、以下の処理工程:i)疎水性のナノ構造化された粒子を平面状の伝達媒体の表面上に施与する工程ii)被覆材料及びテキスタイル平面構築物を、処理工程i)で疎水性のナノ構造化された粒子を施与した伝達媒体の表面上に施与する工程iii)処理工程i)〜ii)から得られる複合材料を熱処理する工程、及びiv)伝達媒体を除去する工程を有することを特徴とする、被覆されたテキスタイル平面構築物上の自浄性表面の製造法、並びに、本発明による方法を用いて製造された被覆されたテキスタイル平面構築物及びその使用に関する。
請求項(抜粋):
被覆されたテキスタイル平面構築物上の自浄性表面の製造法において、前記製造法が、以下の処理工程:
i)疎水性のナノ構造化された粒子を平面状の伝達媒体の表面上に施与する工程
ii)被覆材料及びテキスタイル平面構築物を、処理工程i)で疎水性のナノ構造化された粒子を施与した伝達媒体の表面上に施与する工程
iii)処理工程i)〜ii)から得られる複合材料を熱処理する工程、及び
iv)伝達媒体を除去する工程
を有することを特徴とする、被覆されたテキスタイル平面構築物上の自浄性表面の製造法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (6件):
4L031BA04
, 4L031BA09
, 4L031BA20
, 4L031BA23
, 4L031BA24
, 4L031DA00
引用特許: