特許
J-GLOBAL ID：200903024517999310
フォーカスモニタ方法及びマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-046236
公開番号（公開出願番号）：特開2004-259765
出願日： 2003年02月24日
公開日（公表日）： 2004年09月16日
要約：
【課題】最適露光量から大きくずれた露光量でフォーカスモニタパターンを露光しても、求められるデフォーカス量の誤差を小さくすること。【解決手段】フォーカスモニタマークの寸法とデフォーカス量との関係と、露光量との関係を求める工程と、前記マスクを用いてフォーカスモニタパターン及び露光量メータをウェハ上に形成する工程と、前記露光量メータの寸法を測定し、実効的な露光量を求める工程と、求められた実効的な露光量と、前記フォーカスモニタマークの大きさとデフォーカス量との関係と露光量との関係とから、前記実効的な露光量に応じた前記フォーカスモニタマークの寸法とデフォーカス量との関係を求める工程と、前記フォーカスモニタマークの寸法を測定する工程と、測定されたフォーカスモニタマークの寸法と、前記実効的な露光量に応じたフォーカスモニタマークの寸法とデフォーカス量との関係に基づいてデフォーカス量を求める。【選択図】 図9
請求項（抜粋）：
デフォーカス量に応じて寸法が変化するフォーカスモニタマークをウェハ上に形成するフォーカスモニタパターン、及び実効的な露光量に応じて寸法が変化する露光量メータを前記ウェハ上に形成する露光量モニタパターンが配置されたマスクを用意する工程と、
前記フォーカスモニタマークの寸法とデフォーカス量との関係と、露光量との関係を求める工程と、
前記マスクを用いてフォーカスモニタパターン及び露光量メータをウェハ上に形成する工程と、
前記露光量メータの寸法を測定し、実効的な露光量を求める工程と、
求められた実効的な露光量と、前記フォーカスモニタマークの大きさとデフォーカス量との関係と露光量との関係とから、前記実効的な露光量に応じた前記フォーカスモニタマークの寸法とデフォーカス量との関係を求める工程と、
前記フォーカスモニタマークの寸法を測定する工程と、
測定されたフォーカスモニタマークの寸法と、前記実効的な露光量に応じたフォーカスモニタマークの寸法とデフォーカス量との関係に基づいてデフォーカス量を求める工程とを含むことを特徴とするフォーカスモニタ方法。
IPC (3件)：
H01L21/027
, G03F1/08
, G03F9/02
H01L21/30 526Z
, G03F1/08 A
, G03F1/08 M
, G03F9/02 H
, H01L21/30 502P
, H01L21/30 516D
2H095BA01
, 2H095BB03
, 2H095BE02
, 2H095BE08
, 2H095BE09
, 5F046AA25
, 5F046CB17
, 5F046DA02
, 5F046DA14
, 5F046DC03
