特許
J-GLOBAL ID：200903024752176550

電子ビーム描画装置、電子ビームの焦点ずれ補正方法及び電子ビームの焦点ずれ測定方法

発明者：
矢澤 崇

矢澤 崇 について

, 
服部 清司

服部 清司 について


出願人/特許権者：
株式会社ニューフレアテクノロジー

株式会社ニューフレアテクノロジー について


代理人 (3件)： 松山 允之 ,  河西 祐一 ,  池上 徹真
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-195847
公開番号（公開出願番号）：特開2007-019061
出願日： 2005年07月05日
公開日（公表日）： 2007年01月25日
要約：
【目的】 主偏向領域面と共に副偏向領域面での焦点ずれを小さくする電子ビーム描画装置或いはその方法を提供することを目的とする。【構成】 主偏向器214と副偏向器212と、前記主偏向器214及び副偏向器212内の電子ビーム200の位置を平行移動させるアライメントコイル210を具備した電子ビーム描画装置において、前記副偏向器212によるビーム偏向の際に、前記アライメントコイル210により試料面に対する焦点ずれが最小となるように前記電子ビーム200を移動させると共に、前記主偏向器214によるビーム偏向の際に、試料面に対する焦点ずれが最小となるように前記電子ビーム200の焦点を補正することを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
主・副2段の対物偏向器と、前記対物偏向器内の荷電ビームの位置を平行移動させるコイルを具備した荷電ビーム描画装置において、 前記副偏向器によるビーム偏向の際に、前記コイルにより試料面に対する焦点ずれが最小となるように前記荷電ビームを移動させると共に、 前記主偏向器によるビーム偏向の際に、試料面に対する焦点ずれが最小となるように前記荷電ビームの焦点を補正することを特徴とする荷電ビーム描画装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/21 ,  H01J 37/305
FI (4件)：
H01L21/30 541F ,  H01J37/147 C ,  H01J37/21 Z ,  H01J37/305 B
Fターム (11件)：
5C033GG03 ,  5C033MM03 ,  5C034BB04 ,  5C034BB08 ,  5F056AA04 ,  5F056AA20 ,  5F056CB14 ,  5F056CB16 ,  5F056CB32 ,  5F056CB34 ,  5F056EA06
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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