特許
J-GLOBAL ID：200903025213919715
ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
高松 猛
, 矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-180797
公開番号（公開出願番号）：特開2009-042748
出願日： 2008年07月10日
公開日（公表日）： 2009年02月26日
要約：
【課題】高感度で、かつパターン倒れと線幅のバラツキの両立を可能にしたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法の提供。【解決手段】主鎖に酸分解性基を含む特定の構造と、特定の酸分解性基を複数種含む繰り返し単位とを含む樹脂を用いたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(pI)〜(pV)のいずれかで表される基から選ばれる第一の基を有する繰り返し単位を有し、かつ下記一般式(pI)〜(pV)のいずれかで表される基から選ばれる、第一の基とは異なる第二の基を有する繰り返し単位を有し、さらにポリマー主鎖に下記一般式(1)で表される構造を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂と、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、および(C)溶剤とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/039
, C08F 2/38
, C08F 220/02
, C08F 232/06
, H01L 21/027
G03F7/039 601
, C08F2/38
, C08F220/02
, C08F232/06
, H01L21/30 502R
2H025AA02
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BF02
, 2H025BG00
, 2H025CC04
, 2H025CC20
, 2H025FA01
, 2H025FA10
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4J011NA25
, 4J011NB04
, 4J011NB05
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AL08S
, 4J100BA03R
, 4J100BA03S
, 4J100BA11P
, 4J100BA11Q
, 4J100BA40P
, 4J100BA40Q
, 4J100BC03P
, 4J100BC03Q
, 4J100BC04Q
, 4J100BC08Q
, 4J100BC09P
, 4J100BC09Q
, 4J100BC09R
, 4J100BC09S
, 4J100BC53P
, 4J100BC59P
, 4J100BC59Q
, 4J100CA03
, 4J100CA06
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100DA39
, 4J100FA04
, 4J100FA08
, 4J100FA19
, 4J100JA38
