特許
J-GLOBAL ID：200903080305192103

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法

発明者：
林 亮太郎

林 亮太郎 について

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竹下 優

竹下 優 について

, 
岩井 武

岩井 武 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-119498
公開番号（公開出願番号）：特開2005-037893
出願日： 2004年04月14日
公開日（公表日）： 2005年02月10日
要約：
【課題】 焦点深度を低減させずに近接効果を低減させることができ、より好ましくは焦点深度を増大させるとともに近接効果を低減させることができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)とを含み、(A)成分が、酸解離性溶解抑制基を含み、(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)、構成単位(a1)に含まれる前記酸解離性溶解抑制基よりも解離しにくい酸解離性溶解抑制基を含み、(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a2)、およびラクトン官能基を含み、(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a3)を有するポジ型レジスト組成物、およびこれを用いたレジストパターン形成方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)とを含むポジ型レジスト組成物であって、 前記(A)成分が、 酸解離性溶解抑制基を含み、かつ(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)、 前記構成単位(a1)に含まれる前記酸解離性溶解抑制基よりも解離しにくい酸解離性溶解抑制基を含み、かつ(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a2)、および ラクトン官能基を含み、かつ(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a3)を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F7/039 ,  G03F7/033 ,  H01L21/027
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 502R
Fターム (13件)：
2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (9件)
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