特許
J-GLOBAL ID：200903025754112091

感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

発明者：
川西 安大

川西 安大 について

, 
和田 健二

和田 健二 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-239577
公開番号（公開出願番号）：特開2008-100988
出願日： 2007年09月14日
公開日（公表日）： 2008年05月01日
要約：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、感度、解像度、ラフネス、パターン形状及びアウトガス特性に優れた感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】一般式(I)で表される新規な化合物(A)、それを含有する感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法。式(I)中、R1〜R13は、各々独立に水素原子又は置換基を表す。Zは単結合または2価の連結基である。X-はプロトンアクセプター官能基を含むアニオンである。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
一般式(I)で表される化合物(A)を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (6件)：
C07D 333/76 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/038 ,  H01L 21/027 ,  C07D 339/08
FI (6件)：
C07D333/76 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/038 601 ,  H01L21/30 502R ,  C07D339/08
Fターム (22件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BF29 ,  2H025BG00 ,  2H025CB10 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025DA23 ,  2H025DA34 ,  2H025FA17 ,  4C023PA08
引用特許：
出願人引用 (20件)
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審査官引用 (10件)
  • ポジ型レジスト組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-149620   出願人：富士写真フイルム株式会社
  • ポジ型フォトレジスト組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-028103   出願人：富士写真フイルム株式会社
  • ポジ型感光性組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-274577   出願人：富士写真フイルム株式会社
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