ダイヤモンド膜及びその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤巻正憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-000629
公開番号（公開出願番号）：特開2004-210606
出願日： 2003年01月06日
公開日（公表日）： 2004年07月29日
要約：

【課題】高速成膜且つ高品質なダイヤモンド膜及びその製造方法を提供する。【解決手段】アセトン又はアルコールの少なくともいずれか一方を水素でバブリングしたものを反応ガスとして使用し、80乃至200Torrの圧力下で、915±10MHzの高周波発生源を使用し、投入電力を50kW以上としてマイクロ波を導入してマイクロ波プラズマを発生させ、そのマイクロ波プラズマ中に基板を投入することにより、前記基板を加熱しながらダイヤモンドを析出させてダイヤモンド膜を気相合成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

反応ガスとしてアセトン及びアルコールの少なくともいずれか一方を含むガスを使用し、反応ガス圧力を80乃至200Torrとし、投入電力が50kW以上のマイクロ波化学気相蒸着法により、ダイヤモンド膜を気相合成することを特徴とするダイヤモンド膜の製造方法。

IPC (4件)：

C30B29/04 , C01B31/06 , C23C16/27 , H01L21/205

FI (4件)：

C30B29/04 E , C01B31/06 A , C23C16/27 , H01L21/205

Fターム (29件)：

4G077AA03 , 4G077BA03 , 4G077DB07 , 4G077DB19 , 4G077EA05 , 4G077TA04 , 4G077TA07 , 4G146AA04 , 4G146AB07 , 4G146BA11 , 4G146BA12 , 4G146BA48 , 4G146BC09 , 4K030AA01 , 4K030AA09 , 4K030AA17 , 4K030BA28 , 4K030CA04 , 4K030FA01 , 4K030JA09 , 4K030JA16 , 5F045AA09 , 5F045AB07 , 5F045AC01 , 5F045AC07 , 5F045AD12 , 5F045AD13 , 5F045AD14 , 5F045BB12

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平4-077394
放射線検出器デバイスに適するCVDダイヤモンド及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-167915 出願人：サンゴバン/ノートンインダストリアルセラミックスコーポレイション
ダイヤモンド被覆物品とその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-195394 出願人：日本特殊陶業株式会社

全件表示

引用文献：

審査官引用 (3件)

前のページに戻る