SiO2 含有廃水の処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉嶺桂 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-209409
公開番号（公開出願番号）：特開平10-034161
出願日： 1996年07月22日
公開日（公表日）： 1998年02月10日
要約：

【要約】【課題】 SiO2 含有廃水を従来より低コスト、且つ効率よく除去することができるSiO2 含有廃水の処理方法を提供する。【解決手段】 SiO2 を含有する廃水からSiO2 を凝集して分離する処理方法において、該廃水に、アルミニウム化合物と硫酸を添加して、pHを3.8〜4.8に数分間維持し、前記SiO2 粒子を粒径数〜数十μmに凝集させ、次に、アルカリ剤を添加しpH6〜8に調整した後、高分子凝集剤を添加した凝集沈殿分離、又は1μm以下のポアサイズの膜を使用した固液分離を行うこととしたものであり、前記処理する廃水は、予かじめ前処理として粒径0.03〜0.6μmの微粒子が添加されているのがよく、添加する微粒子はコロイド状のSiO2 がよく、また、前記方法で処理した処理水を、更にRO膜及び/又はイオン交換樹脂により処理すると、よりSiO2 を除去できる。

請求項（抜粋）：

SiO2 を含有する廃水からSiO2 を凝集して分離する処理方法において、該廃水に、アルミニウム化合物と硫酸を添加して、pHを3.8〜4.8に数分間維持し、前記SiO2 粒子を粒径数〜数十μmに凝集させ、次に、アルカリ剤を添加しpH6〜8に調整した後、高分子凝集剤を添加した凝集沈殿分離、又は1μm以下のポアサイズの膜を使用した固液分離を行うことを特徴とするSiO2 含有廃水の処理方法。

IPC (7件)：

C02F 1/52 CDT , B01D 21/01 102 , B01D 21/01 107 , B01D 61/02 500 , C02F 1/42 ZAB , C02F 1/44 ZAB , C02F 1/56 ZAB

FI (7件)：

C02F 1/52 CDT K , B01D 21/01 102 , B01D 21/01 107 B , B01D 61/02 500 , C02F 1/42 ZAB E , C02F 1/44 ZAB E , C02F 1/56 ZAB K

引用特許：

出願人引用 (11件)

特開昭62-091288
シリコン加工廃水の処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-189098 出願人：信越半導体株式会社
半導体設備廃液の処理法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-121041 出願人：日揮株式会社, 株式会社ナムテック

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