リソグラフィ投影装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-201548
公開番号（公開出願番号）：特開2002-043221
出願日： 2001年07月03日
公開日（公表日）： 2002年02月08日
要約：

【要約】【課題】リソグラフィ投影装置でマスクパターンを基板上に正確な結像するためには、投影放射線ビームの強度がビーム直角断面全体に亘って均一であることが重要であるが、その均一化のために使う種々の光学素子が楕円性誤差のような強度分布の異常を取込むことがある。この異常を解消することが課題である。【解決手段】放射線源LAから積分器17を通ってマスクMAに至る投影ビームPBを成形するズーム・アキシコン15、16の前に一つ14および後に一つ18の六角形マイクロレンズ14bのアレイから成る回折光学素子を配置し、積分器入射面のフィリングを向上すると共に、回折素子14が持込んだ投影ビームの楕円性を、回折素子18を光軸周りに回転することによって相殺する。

請求項（抜粋）：

リソグラフィ投影装置で:- 放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(Ex,IL)で、上記投影ビーム(PB)の角エネルギー分布および空間エネルギー分布を調整し且つその瞳に上記投影ビーム(PB)の予め選択した強度分布をもたらすための照明システム(IL)を含む放射線システム;- 所望のパターンに従って投影ビーム(PB)をパターン化するのに役立つパターニング手段(MA)を支持するための支持構造体(MT);- 基板(W)を保持するための基板テーブル(WT)で、上記装置に画定するX、Y座標系のXおよびY方向に沿って動き得るテーブル;- パターン化したビームを基板(W)の目標部分(C)上に結像するための、そして上記強度分布をその瞳に投影するための投影システム(PL)を含む投影装置において、上記強度分布の強度異常を補正するための補正手段(14,18;60)を有し、- 強度異常が、それぞれ、上記XおよびY方向に沿って分布し且つ実質的に異なる強度を有する、二つの細長い部分(51,52)を含み、- 上記補正手段(14,18;60)が投影装置の光軸周りに回転可能な光学素子(14,18;60)を含むことを特徴とする投影装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 D

Fターム (6件)：

5F046BA04 , 5F046BA05 , 5F046CB08 , 5F046CB12 , 5F046CB19 , 5F046CB23

引用特許：

審査官引用 (6件)

光学装置用の照明ユニット
公報種別：公表公報出願番号：特願平9-529931 出願人：アーエスエムリソグラフィベスローテンフェンノートシャップ
照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-358749 出願人：株式会社ニコン
フォトリソグラフィー用ハイブリッド照明系
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-130360 出願人：エスヴィージーリトグラフィーシステムズインコーポレイテッド

全件表示

前のページに戻る