特許
J-GLOBAL ID：200903026562864053

処理システム

発明者：
稲田 博一

稲田 博一 について

, 
上田 一成

上田 一成 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 大森 純一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-111452
公開番号（公開出願番号）：特開2000-306973
出願日： 1999年04月19日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
要約：
【要約】【課題】 部品手数を増大させることもなく、更には撮像手段を設置するためのスペースを考慮することもなく、処理ユニット内の必要な場所の監視が行える処理システムの提供。【解決手段】 処理ユニット間でウェハWを搬送する搬送装置50、60に撮像手段としてのCCDカメラ61及びレーザ変位計62を設ける。搬送装置50、60はCCDカメラ61及びレーザ変位計62で各処理ユニット毎に所定の撮像を行い、処理ユニット内の必要な場所の監視を行う。
請求項（抜粋）：
基板に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットと、少なくともこれら処理ユニット間で基板を搬送する搬送装置と、前記搬送装置に設けられ、前記処理ユニット内を撮像する撮像手段とを具備することを特徴とする処理システム。
IPC (2件)：
H01L 21/68 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 502 J
Fターム (24件)：
5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA03 ,  5F031FA09 ,  5F031FA12 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031GA50 ,  5F031JA04 ,  5F031JA13 ,  5F031JA31 ,  5F031MA02 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F046CD01 ,  5F046CD03 ,  5F046CD10 ,  5F046DA29 ,  5F046JA02 ,  5F046JA16 ,  5F046JA22 ,  5F046JA27 ,  5F046LA18
引用特許：
審査官引用 (7件)
  • 気相成長装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-122874   出願人：古河電気工業株式会社
  • ペースト塗布機
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-256816   出願人：日立テクノエンジニアリング株式会社
  • レジスト膜の塗布むら検出装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-049809   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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