特許
J-GLOBAL ID:200903026575173718
積層強磁性構造体、磁気抵抗デバイス、及び積層強磁性構造体の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
工藤 実
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-361431
公開番号(公開出願番号):特開2006-261637
出願日: 2005年12月15日
公開日(公表日): 2006年09月28日
要約:
【課題】積層強磁性構造体を構成する強磁性層の間に、充分に大きな交換結合を作用させる。【解決手段】本発明による積層強磁性構造体は、基板(1)の上方に位置する第1強磁性層(11)と、第1強磁性層(11)の上方に位置する第2強磁性層(13)と、第1強磁性層(11)と第2強磁性層(13)との間に設けられた第1非磁性層(12)とを具備している。第1強磁性層(11)は、その上面において第1非磁性層(12)に接しており、且つ、第1強磁性層(11)は、その上に形成された膜の結晶配向性を高める作用を有する第1配向制御バッファ(22)を備えている。【選択図】図5A
請求項(抜粋):
基板の上方に位置する第1強磁性層と、
前記第1強磁性層の上方に位置する第2強磁性層と、
前記第1強磁性層と前記第2強磁性層との間に設けられた第1非磁性層
とを具備し、
前記第1強磁性層は、その上面において第1非磁性層に接しており、
前記第1強磁性層は、その上に形成された膜の結晶配向性を高める作用を有する第1配向制御バッファを備える
積層強磁性構造体。
IPC (9件):
H01L 43/08
, H01L 27/105
, H01L 21/824
, H01L 43/12
, H01L 43/10
, G11B 5/39
, H01F 10/14
, H01F 10/30
, H01F 10/16
FI (9件):
H01L43/08 Z
, H01L27/10 447
, H01L43/12
, H01L43/10
, G11B5/39
, H01F10/14
, H01F10/30
, H01F10/16
, H01L43/08 M
Fターム (12件):
5D034BA04
, 5D034CA04
, 5D034CA08
, 5E049AA04
, 5E049AA07
, 5E049BA12
, 5E049CB02
, 5E049DB02
, 5E049DB12
, 5F083FZ10
, 5F083JA39
, 5F083PR22
引用特許:
出願人引用 (3件)
審査官引用 (5件)
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