特許
J-GLOBAL ID:200903026840117620
液晶ディスプレイ基板処理方法と、その方法を利用した処理装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
湯浅 正彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-074774
公開番号(公開出願番号):特開2000-267106
出願日: 1999年03月19日
公開日(公表日): 2000年09月29日
要約:
【要約】【課題】液晶ディスプレイ基板に帯電する静電気を、簡易且つ完全に除去しようとするものである。【解決手段】静電気除去装置本体(2)内において、ターンテーブル(6)上に載置した液晶ディスプレイ基板(8)に対して、この液晶ディスプレイ基板(8)を回転させつつ軟X線を照射することにより、高密度空気イオン空間を装置内に作り、この軟X線により発生する高密度の空気イオンや直接軟X線が液晶ディスプレイ基板中を透過することにより発生するイオンと静電気が結合して電気的に中和されるものとなるので、この液晶ディスプレイ基板に残留、帯電する静電気を完全に除去することができる。
請求項(抜粋):
外部への軟X線の漏洩を完全に遮蔽でき、且つ軟X線を反射自在とする空間内において、被照射物である液晶ディスプレイ基板に対して均等に回転させつつ、軟X線を照射してなる液晶ディスプレイ基板処理方法。
IPC (2件):
G02F 1/1337 500
, G02F 1/13 101
FI (2件):
G02F 1/1337 500
, G02F 1/13 101
Fターム (13件):
2H088FA20
, 2H088FA23
, 2H088FA24
, 2H088HA01
, 2H088HA03
, 2H088MA18
, 2H088MA20
, 2H090HC14
, 2H090HC16
, 2H090HC18
, 2H090JC09
, 2H090MB01
, 2H090MB03
引用特許:
審査官引用 (8件)
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不可視光照射装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-257500
出願人:高砂熱学工業株式会社
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基板の洗浄乾燥装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-183579
出願人:株式会社飯沼ゲージ製作所, 浜松ホトニクス株式会社
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液晶配向処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-091783
出願人:株式会社飯沼ゲージ製作所, 浜松ホトニクス株式会社
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