特許
J-GLOBAL ID：200903027046403755
スペーサー用感放射線性樹脂組成物ならびにスペーサーおよびその形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
大島 正孝
, 勝又 秀夫
, 白石 泰三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-080006
公開番号（公開出願番号）：特開2008-024915
出願日： 2007年03月26日
公開日（公表日）： 2008年02月07日
要約：
【課題】高感度、高解像度であり、かつパターン形状、圧縮強度、ラビング耐性、耐熱性などの諸性能に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができ、焼成時の昇華物の発生が抑制され、LCD表示における焼付きが抑制され、配向膜剥離液などの薬液に対する十分な耐性を備えた、スペーサーの形成に好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物例えばアクリル酸グリシジルと、(メタ)アクリロイルアルキルオキセタンとのそれぞれに由来する重合単位を有するブロックセグメントを少なくとも1つ有する、2以上のブロックセグメントからなるブロック共重合体、重合性不飽和化合物および感放射線性重合開始剤を含有する感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)ブロック共重合体
(B)重合性不飽和化合物および
(C)感放射線性重合開始剤
を含有し、(A)ブロック共重合体が、2つ以上のブロックセグメントを有し、そのうち少なくとも1つのブロックセグメントが(a1)エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物に由来する重合単位ならびに下記式(I)および(II):
IPC (4件)：
C08F 20/20
, C08F 297/00
, G03F 7/033
, G02F 1/133
C08F20/20
, C08F297/00
, G03F7/033
, G02F1/1339 500
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA10
, 2H025AB17
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC42
, 2H025BJ10
, 2H025CA01
, 2H025CA27
, 2H025CA28
, 2H025CA35
, 2H025CB41
, 2H025CB43
, 2H025CB56
, 2H025FA29
, 2H089MA04X
, 2H089NA12
, 2H089NA14
, 2H089PA01
, 2H089PA08
, 2H089QA16
, 4J026HA11
, 4J026HA39
, 4J026HA48
, 4J026HB11
, 4J026HB12
, 4J026HB39
, 4J026HC11
, 4J026HC39
, 4J026HE01
, 4J026HE04
, 4J100AL62P
, 4J100AL63P
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100FA02
, 4J100FA03
, 4J100FA06
, 4J100JA38
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (5件)
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