イオン照射装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-131074
公開番号（公開出願番号）：特開平9-293480
出願日： 1996年04月25日
公開日（公表日）： 1997年11月11日
要約：

【要約】【課題】プラズマシャワー装置からのプラズマ中のイオンが上流側のサプレッサ電極に衝突するのを防止して、高エネルギーの二次電子がファラデーカップ内に入るのを防止する。【解決手段】リフレクタ電極20の入口部に、イオンビーム2が通過する孔44を有する蓋42を設けた。かつ、ファラデーカップ8の入口部10とサプレッサ電極32との間に、イオンビーム2が通過する孔48を有するイオンサプレッサ電極46を設けた。このイオンサプレッサ電極46には、イオンサプレッサ電源50から、ファラデーカップ8に対して正電圧が印加される。

請求項（抜粋）：

基板を保持するホルダと、このホルダの少なくとも上流側の周囲を取り囲んでいて二次電子のアースへの逃げを防止する筒状のファラデーカップと、このファラデーカップ内の周辺部に設けられていてファラデーカップを基準にして負電圧が印加される筒状のリフレクタ電極と、前記ファラデーカップとこのリフレクタ電極の側面部に相対向するようにそれぞれ設けられた孔と、前記ファラデーカップの外側に設けられていてプラズマを発生させてそれをファラデーカップおよびリフレクタ電極の前記孔を通してリフレクタ電極内に導入するプラズマシャワー装置と、前記ファラデーカップの入口部に設けられていてファラデーカップを基準にして負電圧が印加されるものであってイオンビームが通過する孔を有するサプレッサ電極とを備え、イオンビームをサプレッサ電極の孔、ファラデーカップ内およびリフレクタ電極内を通して前記ホルダ上の基板に照射する構成のイオン照射装置において、前記リフレクタ電極の入口部に、イオンビームが通過する孔を有する蓋を設け、かつ前記ファラデーカップの入口部とサプレッサ電極との間に、ファラデーカップを基準にして正電圧が印加されるものであってイオンビームが通過する孔を有するイオンサプレッサ電極を設けたことを特徴とするイオン照射装置。

IPC (4件)：

H01J 37/317 , C23C 14/48 , H01J 37/20 , H01L 21/265

FI (4件)：

H01J 37/317 Z , C23C 14/48 C , H01J 37/20 G , H01L 21/265 N

引用特許：

審査官引用 (8件)

イオン処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-249805 出願人：日新電機株式会社
イオン処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-361356 出願人：日新電機株式会社
特開平2-144841

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