特許
J-GLOBAL ID：200903027642286804
パターン検査方法及びその装置並びに半導体ウエハの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-150652
公開番号（公開出願番号）：特開平10-340347
出願日： 1997年06月09日
公開日（公表日）： 1998年12月22日
要約：
【要約】【課題】二次元的な繰返し性を有する場所とX方向,Y方向のみの繰返し性を有する部分が混在しているパターンが複数ある対象物の検査において,簡便な座標指定で欠陥を検出する。【解決手段】着目点101と繰返しピッチだけ離れた例えば102a-dの複数箇所の比較対象との比較を行い,何れとも差がある部分のみを欠陥候補として抽出する。これにより,二次元的な繰返し部分,X,またはY方向にのみ繰返し性を有する場所も検査可能とする。孤立点などのX,Y何れにも繰返し性を有しない部分が欠陥候補として抽出されるが,複数の対象物で共通に欠陥候補を生ずる場合には欠陥とはしないことによりこれらを排除し,真の欠陥を判定する。
請求項（抜粋）：
繰り返しパターンを形成した被検査対象物の物理量を2次元の画像信号として検出し、該検出された2次元の画像信号を2次元のデジタル画像信号に変換し、a)該変換された2次元のデジタル画像信号における着目点のデジタル画像信号とX方向及びY方向に繰り返しピッチの整数倍である複数の比較点のデジタル画像信号の各々とを粗く比較して、着目点と比較点との一致度を求めることにより、着目点が単一あるいは複数の何れの比較点との一致度が高い領域に含まれるかを判定し、b) 前記判定された領域に応じて、着目点と各比較点の両デジタル画像信号間のパターンの位置ずれ量を求めると共に位置ずれを補正し、c) 前記着目点のデジタル画像信号と、位置ずれ補正後の比較点のデジタル画像信号との差画像信号を比較点ごとに抽出し、d) 前記判定された領域に応じて、前記複数の差画像信号から欠陥候補を抽出し、この抽出された欠陥候補が被検査対象物上で不規則に発生した場合真の欠陥として検出することを特徴とするパターン検査方法。
IPC (2件)：
FI (4件)：
G06F 15/62 405 A
, H01L 21/66 Z
, H01L 21/66 J
, H01L 21/66 L
