特許
J-GLOBAL ID:200903028220598168
感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
大島 正孝
, 勝又 秀夫
, 白石 泰三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-051833
公開番号(公開出願番号):特開2008-216487
出願日: 2007年03月01日
公開日(公表日): 2008年09月18日
要約:
【課題】高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物を提供すること。【解決手段】不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物、エポキシ基含有不飽和化合物、オキセタニル基含有不飽和化合物およびこれらの不飽和化合物以外の不飽和化合物の共重合体、ならびに1,2-キノンジアジド化合物、ならびにオキセタニリルシロキサンオリゴマーを含有する感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし
請求項(抜粋):
[A](a1)不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物の群から選ばれる少なくとも1種、
(a2)エポキシ基含有不飽和化合物およびオキセタニル基含有不飽和化合物の群から選ばれる少なくとも1種、ならびに
(a3)(a1)、(a2)以外の不飽和化合物、の共重合体、
[B]1,2-キノンジアジド化合物、ならびに
[C]下記式(1)で表されるシロキサンオリゴマー
IPC (8件):
G03F 7/075
, G03F 7/023
, G03F 7/40
, G02B 3/00
, H01L 21/027
, C08L 33/00
, C08K 5/28
, C08L 83/02
FI (8件):
G03F7/075 511
, G03F7/023
, G03F7/40 501
, G02B3/00 A
, H01L21/30 502R
, C08L33/00
, C08K5/28
, C08L83/02
Fターム (31件):
2H025AA01
, 2H025AA04
, 2H025AA06
, 2H025AA10
, 2H025AA14
, 2H025AB14
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AC01
, 2H025AD03
, 2H025BE01
, 2H025CB13
, 2H025CB14
, 2H025CB16
, 2H025CB30
, 2H025CC06
, 2H025FA17
, 2H025FA29
, 2H096AA25
, 2H096AA27
, 2H096AA28
, 2H096BA10
, 2H096EA02
, 2H096GA09
, 2H096HA01
, 2H096JA04
, 4J002BG04W
, 4J002BG05W
, 4J002CP03X
, 4J002EQ036
, 4J002GP00
引用特許:
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